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《2025最新FPC柔性電路板制造工藝技術》



                柔性電路板(Flexible Printed Circuit 簡稱FPC)是以聚酰亞胺或聚酯薄膜為基材制成的一種具有高度可靠性,絕佳的可撓性印刷電路板。具有配線密度高、重量輕、厚度薄、彎折性好的特點。廣泛應用于各種高科技領域,包括移動設備、車載系統、醫療設備、工業自動化與電力控制、航空航天與軍事等多個領域。


技術特點:

                高效組裝:由于柔性電路板已將所有線路配置完成,無需額外排線連接,顯著節省了組裝時間。
                緊湊體積:柔性電路板能有效降低產品體積,提升便攜性,滿足空間受限的應用需求。
                輕便設計:其輕盈的特性有助于減輕最終產品的整體重量,適用于對重量敏感的應用場景。
                靈活厚度:柔性電路板比傳統PCB更薄,賦予了它卓越的柔軟度,使得在有限空間內進行三維組裝成為可能。
                自由度高:柔性電路板能夠自由彎曲、卷繞和折疊,適應各種空間布局,實現元器件裝配與導線連接的完美結合。
                優越性能:柔性電路板具備良好的散熱性、可焊性以及易于裝連的特點,同時其綜合成本也相對較低。

        

                本篇是為了配合國家產業政策向廣大企業、科研院校提供FPC電路板制造工藝匯編技術資料。資料中每個項目包含了最詳細的技術制造資料,現有技術問題及解決方案、產品生產工藝、產品性能測試,對比分析。資料信息量大,實用性強,是從事新產品開發、參與市場競爭的必備工具。
         本篇系列匯編資料分為為精裝合訂本和光盤版,內容相同,用戶可根據自己需求購買。



2025版《日本光刻膠剝離液制造工藝配方精選匯編》

2025版《日本光刻膠剝離液制造工藝配方精選匯編》

日本在全球光刻膠及剝離液市場中占據主導地位,尤其是在高端光刻膠領域。然而,中國通過政策支持、技術研發和產業鏈協同,正在加速實現光刻膠及相關材料的國產化替代。盡管短期內仍面臨供應風險和技術挑戰,但長期來看,國產光刻膠的自主可控將成為中國半導體產業發展的關鍵。

  本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術資料,資料中包括制造原料、配方、生產工藝、產品性能測試及標準、實際應用效果,技術指標,解決的具體問題等等,是企業提高產品質量和發展新產品的重要、實用、超值和難得的技術資料。


【資料內容】制造工藝及配方
【資料語種】英文 中文
【項目數量】54項
電子版】1980元(PDF文檔  郵件發送)


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日本在全球光刻膠及剝離液市場中占據主導地位,尤其是在高端光刻膠領域。然而,中國通過政策支持、技術研發和產業鏈協同,正在加速實現光刻膠及相關材料的國產化替代。盡管短期內仍面臨供應風險和技術挑戰,但長期來看,國產光刻膠的自主可控將成為中國半導體產業發展的關鍵。

  本資料是收錄涉及日本光刻膠剝離劑最新專利技術資料,資料中包括制造原料、配方、生產工藝、產品性能測試及標準、實際應用效果,技術指標,解決的具體問題等等,是企業提高產品質量和發展新產品的重要、實用、超值和難得的技術資料。


【資料內容】制造工藝及配方
【資料語種】英文 中文
【項目數量】54項
電子版】1980元(PDF文檔  郵件發送)


目錄

1硬化物層を基板から剝離する剝離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剝離液東京応化工業株式會社
2樹脂マスク剝離用洗浄剤組成物花王株式會社
3レジスト剝離液太陽インキ製造株式會社
4フォトレジスト剝離液ナガセケムテックス株式會社
5フォトレジスト剝離組成物関東化學株式會社
6レジスト剝離液組成物及びそれを用いたパターン形成方法東友ファインケム株式會社
7回路基板用樹脂膜剝離剤日油株式會社
8レジストの剝離液株式會社JCU
9レジスト用剝離組成物三洋化成工業株式會社
10レジスト剝離液組成物野村マイクロ?サイエンス株式會社
11レジスト剝離液及びレジストの剝離方法ナガセケムテックス株式會社
12ネガ型樹脂マスク剝離用洗浄剤組成物花王株式會社
13レジスト剝離液及びレジスト剝離方法野村マイクロ?サイエンス株式會社
14剝離液、これを用いた剝離方法および半導體基板製品の製造方法富士フイルム株式會社
15レジスト剝離液とその製造方法パナソニックIPマネジメント株式會社
16フォトレジスト用剝離液パナソニックIPマネジメント株式會社
17レジスト剝離剤及びそれを用いたレジスト剝離方法東ソー株式會社
18フォトリソグラフィ用剝離液及びパターン形成方法東京応化工業株式會社
19レジスト剝離液の組成比維持裝置およびレジスト剝離液の組成比維持方法パナソニックIPマネジメント株式會社
20変性レジストの剝離液、これを用いた変性レジストの剝離方法および半導體基板製品の製造方法富士フイルム株式會社
21パターン剝離方法、電子デバイスの製造方法富士フイルム株式會社
22レジスト剝離液及びレジスト剝離方法旭化成イーマテリアルズ株式會社
23レジスト剝離液パナソニック株式會社
24レジスト剝離剤組成物ライオン株式會社
25レジスト除去液およびレジスト剝離方法富士フイルム株式會社
26フォトレジスト剝離液組成物パナソニックIPマネジメント株式會社
27フォトリソグラフィ用剝離液、及びパターン形成方法東京応化工業株式會社
28レジスト剝離剤及びそれを用いた剝離方法東ソー株式會社
29レジスト剝離剤野村マイクロ?サイエンス株式會社
30レジスト剝離液の劣化抑制方法、レジスト剝離方法及びシステム三菱瓦斯化學株式會社
31レジスト剝離液およびレジスト剝離方法富士フイルム株式會社
32剝離剤組成物パナソニックIPマネジメント株式會社
33剝離液リサイクルシステムと運転方法および剝離液のリサイクル方法パナソニック株式會社
34フォトレジスト用剝離液パナソニック株式會社
35フォトレジスト剝離剤組成物三菱瓦斯化學株式會社
36レジスト剝離剤組成物及び當該組成物を用いたレジストの剝離方法和光純薬工業株式會社
37レジスト剝離液組成物及びこれを用いたレジストの剝離方法東友ファインケム株式會社
38フォトレジスト剝離剤組成物及びフォトレジスト剝離方法ナガセケムテックス株式會社
39レジスト剝離剤組成物及びそれを用いたレジスト剝離方法出光興産株式會社
40防食性フォトレジスト剝離剤組成物出光興産株式會社
41フェニルジケトン誘導體を含有する防食剤又は剝離剤。宇部興産株式會社
42インドール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。宇部興産株式會社
43レジスト剝離液東ソー株式會社
44レジスト剝離液パナソニックIPマネジメント株式會社
45ビアリール化合物を含有する防食剤又は剝離剤。宇部興産株式會社
46レジスト剝離剤用化合物及びそれを用いたレジスト剝離剤出光興産株式會社
47剝離用組成物および剝離方法旭硝子株式會社
48半導體デバイスの剝離液、及び、剝離方法富士フイルム株式會社
49レジスト用剝離剤組成物及び半導體裝置の製造方法ソニー株式會社
50レジスト剝離剤組成物東亞合成株式會社
51フォトレジスト剝離剤組成物ナガセケムテックス株式會社
52レジスト剝離剤及びその製造方法出光興産株式會社
53粒子を含有するレジスト剝離液及びそれを用いた剝離方法富士フイルム株式會社
54フォトレジスト剝離液組成物三菱瓦斯化學株式會社



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